【中微公司】业绩点评：度过业务结构调整之年，刻蚀设备将主导公司未来业绩高成长

中微半导体发布业绩快报，2019年收入19.47亿元，同比增长18.8%; 营业利润1.98亿元，同比增长34.5%，利润总额1.98亿元，同比增长34.8%，净利润1.89亿元，同比增长107.5%，扣非净利润1.48亿元，同比增长41.5%。

预计营业收入的产品结构大幅优化。尽管受LED行业调整影响，但刻蚀设备支撑公司整体收入保持较快增长。纵观半导体设备供应商Applied Materials、TEL的收入结构中，集成电路工艺设备收入占90%以上，中微2017/2018年设备收入中，集成电路工艺设备（刻蚀）占比35%、40%，我们预计2019年公司收入结构中集成电路工艺设备占比大幅提升，主要依据是2018-2019年中微获得长江存储、华虹无锡项目、上海华力二期的刻蚀设备订单显著增长，且考虑19年初15.9亿元在手订单中刻蚀设备、MOCVD设备的平均交付期（含验收）分别为6个月和12个月。

预计2019年刻蚀设备收入、订单均呈高增长。一方面，中微公司的刻蚀设备核心客户之一台积电发布电话会议纪要，2019年资本开支大幅增长42%至149亿美元，2020年保持在150亿美元以上，中微刻蚀设备可用于TSMC的7nm/5nm先进制程；另一方面，中微公司在长江存储等国内晶圆厂的份额大幅提升。根据中国国际招标网，2017年以来中微累计中标长江存储38台刻蚀设备订单，占长江存储介质刻蚀设备所有采购量的24%。在长江存储2017年至今的三次集中招标中，中微在介质刻蚀设备中的市占率依次是10%、30%、31%。若按自然年份计算，2017-2020年中微半导体历年介质刻蚀的中标份额依次是12%、34%、19%、50%，其份额提升叠加国内晶圆厂密集扩产，公司刻蚀设备订单有望在未来几年内保持高增长。

新产品ICP刻蚀设备研发将带来更广泛的刻蚀工艺覆盖范围。根据公司招股书，ICP刻蚀市场规模正在超越CCP刻蚀设备市场规模，因为逻辑电路先进制程及3D Nand层数增加对ICP刻蚀工艺需求大增。一旦公司ICP刻蚀设备研发产业化，中微将在现有可覆盖3D NAND中2/3的介质刻蚀工艺基础上，将进一步提升介质刻蚀工艺的覆盖广度以及硅基刻蚀的竞争能力。根据长江存储采购数据，中微中标的介质刻蚀设备已覆盖顶层通孔、沟道通孔、接触孔、硬膜/掩模刻蚀等工艺，尚未覆盖ONO栅极介质刻蚀、侧墙刻蚀、台阶刻蚀等工艺。

公司净利润增速明显快于营业收入增速。19年公司净利润增长108%，而收入仅增长19%，主要原因是2018年发生的计入非经常性损益的股份支付费用1.02亿元而19年未有此类费用发生，且19年研发费用加计扣除增加等因素导致所得税费用减少。

投资建议：随着在CCP刻蚀设备市场地位的提升，以及ICP刻蚀设备研发进步，中微公司将最大受益于国内外核心客户密集建产，同时根据企查查，公司目前持有CVD供应商沈阳拓荆11.2%股权，且公司于去年8月公布拟入股上海睿励，中微有望成为除光刻工艺、离子注入机之外的关键工艺设备平台，继续关注中微公司（688012）。

风险提示：国内半导体下游客户扩产低于预期；关键部件进口受贸易战影响。